注射液改良型膠體磨，注射液膠體磨， 注射液研磨分散機 ,注射液新型膠體磨，注射液進口研磨設備,注射液改良型膠體磨是將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成。

        

特別是一種硫酸頭孢喹肟注射液及其制作工藝。該注射液的組成為含頭孢喹肟不低于50g-300g的硫酸頭孢喹肟微粉、抗氧劑0.4g-40g、脂類或酯類有機溶劑加至10000ml。制作工藝將抗氧劑溶于脂類或酯類有機溶劑，過濾至混合罐中，將硫酸頭孢喹肟微粉加入，攪勻，過均質機，制成均勻的混懸液，攪拌、分裝、滅菌。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術存在的國內沒有第四代動物頭孢類抗菌素的問題，具有所制備的產(chǎn)品與第三代頭孢菌素相比，抗菌譜更廣，抗菌活性更強，對細菌產(chǎn)生的β－內酰胺酶更穩(wěn)定，*了國內沒有第四代動物頭孢類抗菌素制劑的空白，整體制備工藝簡單易行。
                     
改良型膠體磨，研磨分散機，簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機，合二為一了。同時具備膠體磨和分散機的功能，并且減少了膠體磨和分散機串連后的，時間差因素。從成本上來講，原先兩臺設備的價格，現(xiàn)在用一臺研磨分散機就可以完成，性價比更高。更多信息請包。

CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散設備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMD2000系列改良型膠體磨的結構：是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

            
CMD2000系列改良型膠體磨的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 ，注射液膠體磨， 注射液研磨分散機 ,注射液新型膠體磨，注射液進口研磨設備，全新的設計理念，超高設備剪切力，以及穩(wěn)定的設備運行，IKN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質的設備服務！