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 隔膜漿陶瓷研磨分散機 

   陶瓷膠體磨是由二組陶瓷轉子，二組陶瓷定子組成，在陶瓷膠體磨泵腔內部轉子高速旋轉，使陶瓷轉子甩出，緊貼陶瓷定子，產生強勁的動能能快速地將粉體分散到液體中，高效、快速、均勻地將一個相或多個相分布到另一個連續的相中，通常物料中的各個相是互不相溶的。。使物料在定轉子之間微小的空隙中受到剪切、離心擠壓、撞擊、研磨、高頻振蕩等綜合作用，使物料經過研磨后細度大大提高，再通過適量的添加劑共同作用，使產品快速、均勻、分散、乳化，研磨，避免了原金屬膠體磨磨損后效果差缺點，效能比原來有膠體磨提高3倍以上，特別是對金屬污染要求特別高的企業，如電子和電池行業，可以達到更高品質產品。
 
隔膜對氧化鋁的性能要求：
1.粒徑均勻性，能很好的粘接到隔膜上，又不會堵塞隔膜孔徑。
2.氧化鋁純度高，不能引入雜質，影響電池內部環境。
3.氧化鋁晶型結構的要求，保證氧化鋁對電解液的相容性及浸潤性。
涂覆高純氧化鋁（VK-L30G）隔膜的優點：
1.耐高溫性：
氧化鋁涂層具有優異的耐高溫性，在180攝氏度以上還能保持隔膜形態。
2.高安全性：
氧化鋁涂層可中和電解液中游離的HF，提升電池耐酸性，安全性提高。
3.高倍率性能：
納米氧化鋁在鋰電池中可形成固溶體，提高倍率性和循環性能
4.良好浸潤性：
納米氧化鋁粉末具有良好的吸液及保液能力。
5.*的自關斷特性：
保持了聚烯烴隔膜的閉孔特性，避免熱失控引起安全隱患。
6.低自放電率：
氧化鋁涂層增加微孔曲折度，自放電低于普通隔膜。
7.循環壽命長：
降低了循環過程中的機械微短路，有效提升循環壽命。
 
隔膜分散設備
 
的細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。 
 
研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
 
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
 
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
 
 
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
 
型號    流量
L/H    轉速
rpm    線速度
m/s    功率
kw    入/出口連接
DN
CMD2000/4    300    9000    23    2.2    DN25/DN15
CMD2000/5    1000    6000    23    7.5    DN40/DN32
CMD2000/10    2000    4200    23    22    DN80/DN65
CMD2000/20    5000    2850    23    37    DN80/DN65
CMD2000/30    8000    1420    23    55    DN150/DN125
CMD2000/50    15000    1100    23    110    DN200/DN150