一、真空爐熱處理用途
真空爐熱處理適用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、CVD實(shí)驗(yàn)、物質(zhì)成分測量等。
二、真空爐熱處理特點(diǎn)
1、加熱元件360度均布,爐溫均勻性高,冷室監(jiān)控標(biāo)配。
2、該設(shè)備分熱室和冷室,生產(chǎn)效率高,使用成本低。
3、淬火油槽安裝攪拌器(可調(diào)速),工件變形小,冷卻均勻性高,操作簡捷,編程工藝可多步輸入, 機(jī)械動(dòng)作穩(wěn)定,手動(dòng)/自動(dòng)控制,故障自動(dòng)報(bào)警/顯示。
三、真空爐熱處理參數(shù)
型號 | 加熱有效區(qū) | 裝爐量 | 加熱元件 | 加熱功率 | 高溫 | 均溫性 | 極限真空度 | 壓升率 | 氣冷壓強(qiáng) |
| mm | Kg | Ω | Kw | ℃ | ±℃ | Pa | Pa/h | bar |
TDRG2-644 | 600×400×400 | 200 | 石墨/鉬 | 70 | 1320 | 5 | 4.0E-1/6.7E-3 | ≤0.60 | ≤2 |
TDRG2-755 | 750×500×500 | 300 | 石墨/鉬 | 80 | |||||
TDRG2-966 | 900×600×600 | 500 | 石墨/鉬 | 120 | |||||
TDRG2-1288 | 1200×800×800 | 800 | 石墨/鉬 | 240 |
注:可根據(jù)用戶要求另行設(shè)計(jì)制造。