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單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置

參考價 177750
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
  • 品       牌冠亞制冷
  • 型       號HR-50N
  • 所  在  地無錫市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2024/10/25 11:29:54
  • 訪問次數216
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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司是一家集研發、生產和銷售為一體的GAO端裝備制造企業,專業生產研發制冷加熱控溫系統、超低溫冷凍機、半導體控溫Chiller、新能源用控溫控流量系統等專用設備,廣泛應用于醫藥化工、半導體、新能源、儲能、數據中心、太陽能光伏等領域。


無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司擁有數位在超低溫、高低溫開發方面具有豐富經驗的高素質專業設計人員的研發隊伍。特別是反應釜高精度控溫為單一介質控制-90度~+250度連續控溫,并且高精度線性控制反應釜物料溫度。產品溫度范圍涉及-152度到350度。


門頭.jpg


我們的成功源自于不懈地幫助客戶提高生產力。



制冷加熱循環器、加熱制冷控溫系統、反應釜溫控系統、加熱循環器、低溫冷凍機、低溫制冷循環器、冷卻水循環器、工業冷處理低溫箱、超低溫保存箱、藥品穩定性測試箱、試驗箱、培養箱、加熱制冷恒溫槽等設備。
產地 國產 產品大小 小型
產品新舊 全新 控溫方式 水冷式
自動化程度 其他
【無錫冠亞】單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。
單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置 產品信息


無錫冠亞制冷加熱控溫系統的典型應用:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、

微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、

蒸餾系統控溫、

材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、

半導體設備冷卻加熱、

真空室制冷加熱恒溫控制。





型號SUNDI-320SUNDI-420WSUNDI-430W
介質溫度范圍-30℃~180℃-40℃~180℃-40℃~200℃
控制系統前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協議MODBUS RTU 協議  RS 485接口
物料溫度反饋PT100
溫度反饋設備進口溫度、設備出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率2KW2KW3KW
制冷能力180℃1.5kW1.8kW3kW
50℃1.5kW1.8kW3kW
0℃1.5kW1.8kW3kW
-5℃0.9kW1.2kW2kW
-20℃0.6kW1kW1.5kW
-35℃
0.3kW0.5kW
循環泵流量、壓力max10L/min

0.8bar

max10L/min

0.8bar

max20L/min

2bar

壓縮機海立/泰康/思科普
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
蒸發器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環系統整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
制冷劑R-404A/R507C
接口尺寸G1/2G1/2G1/2
水冷型 W

溫度 20度


450L/H

1.5bar~4bar

G3/8

550L/H

1.5bar~4bar

G3/8

外型尺寸 cm45*65*8745*65*8745*65*120
正壓防爆尺寸
70*75*121.570*75*121.5
標配重量55kg55kg85kg
電源AC 220V 50HZ 2.9kW(max)AC 220V 50HZ 3.3kW(max)AC380V 50HZ  4.5kW(max)
外殼材質SUS 304SUS 304SUS 304
選配
正壓防爆  后綴加PEX
選配可選配以太網接口,配置電腦操作軟件
選配選配外置觸摸屏控制器,通信線距離10M
選配電源100V 50HZ單相,110V 60HZ 單相,230V 60HZ 單相, 220V 60HZ 三相,440V~460V 60HZ 三相



  

  反應釜溫度控制系統通過準確測量反應釜內的溫度,并根據預設的工藝參數自動調節加熱或冷卻設備,以維持反應過程在溫度范圍內進行。單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置

  一、反應釜溫度控制系統在化工行業的應用

  1、精細化學品合成:在精細化學品如染料、醫藥中間體、藥等的生產過程中,溫度是控制反應速率、選擇性和產品純度的關鍵因素。反應釜溫度控制系統能夠準確控制溫度波動,確保反應按預期路徑進行,提高產品質量。

  2、高分子材料聚合:聚合反應對溫度條件敏感,過高或過低的溫度都可能導致聚合速率變化、分子量分布不均或產生副產物。反應釜溫度控制系統能夠實時監控并調整溫度,優化聚合條件,提升產品性能。

  3、催化劑活化與再生:在催化反應中,催化劑的活性往往與溫度密切相關。反應釜溫度控制系統通過準確控制溫度,促進催化劑的活化,同時在必要時進行溫度調節以實現催化劑的再生,延長催化劑使用壽命,降低生產成本。

  4、化學品處理:危險化學品的生產,反應釜溫度控制系統的穩定運行是確保安全生產的重要前提。它能有效防止因溫度失控引發的安全事故,保障人員和設備安全。單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置

  二、反應釜溫度控制系統優勢分析

  1、提高生產效率:準確的溫度控制縮短了反應時間,提高了生產效率,同時減少了因溫度波動導致的返工和廢品率。

  2、優化產品質量:通過準確控制反應溫度,能夠穩定產品質量,減少產品批次間的差異,滿足市場需求。

  3、增強安全性:實時監測和快速響應機制有效預防了因溫度異常引發的安全事故,提升了生產環境的安全性。

反應釜溫度控制系統在化工行業中的應用不僅是提升生產效率和產品質量的手段,更是保障生產安全、促進可持續發展的基石。

  










單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置





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