詳情介紹

產品特點

1、升降式大功率真空微波熔爐，用于材料熔融，例如多晶硅的熔融制取
2、支持1500?C以內材料熔融工藝
3、支持真空氣氛條件工藝
4、支持升降式裝填料工藝
5、支持恒速度多溫區變換結晶工藝
6、智能化控制系統，溫度和功率閉環可控
7、實驗數據曲線顯示且可以導出數據

技術參數

1.組成：微波真空加熱箱體、微波源系統、物料輸送承托系統、保溫系統、水冷卻系統、充氣系統、防泄漏系統、控制系統、電控柜及機架
2.制作條件：輸入電源：3相，380V/50Hz，配電功率：>40KVA
3.加熱系統：微波功率：24KW ，2450±50MHz
4.微波加熱箱體尺寸：約400L空間，尺寸為900×900×500 mm（長×寬×高）
5.坩堝內凈尺寸：約500×500 ×300 mm（長×寬×高）
6.坩堝容量：50-60KG
7.設備進出料口：
配合升降系統在設備底部開口，托盤尺寸約 640×640mm
8.工作溫度：700～1500?C，極限溫度1600?C
9.微波箱體材質:微波腔體采用不銹鋼一體焊接成型，真空氣氛設計
10.微波饋入部位:微波從箱體的四周饋入
11.工作時間:可以承受長期高效率工作
12.微波泄漏量:<5mw/cm² （國標）
微波源系統
微波源：水冷系統
波導：采用高真空波導系統
物料輸送承托系統
設置升降裝置，采用伺服電機和減速機，調節控制位移量，完成輸料、定向結晶功能
輸送過程中，保證物料定位準確，輸送平穩
坩堝到達加熱區后，與爐底結合嚴密，保證在加熱過程中爐腔的氣密性和保溫效果
保溫系統
低介電特性陶瓷保溫材料
水冷卻系統
微波源采用水冷卻方式快速降溫，確保高溫條件下有效的工作
坩堝下方的水冷托盤水流速度可控
氣氛系統
預留兩個進氣孔，采用電磁閥和管路連接，以便真空室內充入保護性氣體和分壓氣體，
設置兩極真空泵組實現高真空環境
控制系統
控制方式：采用PLC自動化控制，彩色觸摸屏人機界面，數字顯示微波功率及箱體內溫度
測溫：采用紅外和熱電偶雙測溫方式，動態監測物料溫度
控溫：編程控制，可手動設置控溫時間及溫度要求，恒溫精度：≤±10℃
功率調節: 0～24KW線性可調