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半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃

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訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
  • 品       牌冠亞恒溫
  • 型       號ETCU-050W
  • 所  在  地無錫市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2025/3/20 11:47:05
  • 訪問次數74
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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司是一家集研發、生產和銷售為一體的GAO端裝備制造企業,專業生產研發制冷加熱控溫系統、超低溫冷凍機、半導體控溫Chiller、新能源用控溫控流量系統等專用設備,廣泛應用于醫藥化工、半導體、新能源、儲能、數據中心、太陽能光伏等領域。


無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司擁有數位在超低溫、高低溫開發方面具有豐富經驗的高素質專業設計人員的研發隊伍。特別是反應釜高精度控溫為單一介質控制-90度~+250度連續控溫,并且高精度線性控制反應釜物料溫度。產品溫度范圍涉及-152度到350度。


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我們的成功源自于不懈地幫助客戶提高生產力。



制冷加熱循環器、加熱制冷控溫系統、反應釜溫控系統、加熱循環器、低溫冷凍機、低溫制冷循環器、冷卻水循環器、工業冷處理低溫箱、超低溫保存箱、藥品穩定性測試箱、試驗箱、培養箱、加熱制冷恒溫槽等設備。
產地 國產 產品大小 小型
產品新舊 全新 結構類型 密封式,立式
結構類型 密封式,立式 溫度 低溫冷水機
【無錫冠亞】是一家專注提供高低溫控溫解決方案的設備廠家,公司主要生產高低溫沖擊氣流儀(熱流儀)、chiller、超低溫制冷機、高低溫測試機機、高低溫沖擊箱等各種為通訊、光模塊、集成電路芯片、航空航天、天文探測、電池包氫能源等領域的可靠性測試提供整套溫度環境解決方案。半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃
半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃ 產品信息


半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃


半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃

半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃


晶圓制造是半導體行業的核心環節,其過程對溫度控制的要求高。晶圓制造領域控溫Chiller作為晶圓制造領域的配套使用的控溫設備,對保證產品質量和生產效率起著一定作用。

一、晶圓制造過程簡介

晶圓制造涉及多個復雜步驟,包括光刻、蝕刻、擴散、離子注入等。這些步驟都需要在控制的溫度條件下進行,以確保晶圓上的微電路圖案準確無誤。溫度的微小變化都可能導致產品性能的大幅下降,甚至造成生產失敗。

二、Chiller的作用與重要性

晶圓制造領域控溫Chiller的主要作用是通過循環冷卻水來維持晶圓制造設備的溫度穩定。在光刻過程中,Chiller通過控制光刻膠的溫度,保持其黏度和揮發速率的穩定,減少線寬偏差。同時,晶圓制造領域控溫Chiller還能控制光學系統的熱變形,降低像差。

1、穩定光刻膠性能,Chiller能夠維持光刻膠溫度在很小的范圍內,避免溫度波動導致光刻膠黏度變化或溶劑揮發速率異常。

2、控制光學系統熱變形,通過循環冷卻水導出熱量,確保光學系統形變量控制在0.1nm以內,降低像差。

3、優化工藝窗口,通過調節光刻機內部環境溫度,間接控制光刻膠的曝光度,擴大焦深范圍。

4、動態響應與異常防控,采用PID算法與變頻壓縮機的Chiller,可在短時間內響應光刻機的瞬時熱量激增,縮短溫度恢復時間。

三、Chiller的技術特點

具有高精度溫度控制,晶圓制造領域控溫Chiller能夠實現很小的溫度波動控制,滿足晶圓制造對溫度精度的嚴苛要求。設備的穩定性和可靠性有助于維持晶圓制造過程中的溫度穩定性。

隨著半導體技術的不斷進步,對Chiller的性能要求也在不斷提高。未來的Chiller需要具備更高的溫度控制精度、更快的響應速度以及更強的適應性。Chiller在晶圓制造領域不僅能夠提高產品質量和生產效率,還能夠降低影響。隨著技術的不斷發展,晶圓制造領域控溫Chiller將繼續在半導體制造領域發揮其作用,并推動發展。





半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃






關鍵詞:壓縮機
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