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真空鍍膜機(jī)Edwards真空泵

參考價(jià)面議
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  • 公司名稱上海赫哲真空設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 更新時(shí)間2025/3/21 7:12:04
  • 訪問次數(shù)24
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上海赫哲真空設(shè)備有限公司是一家依靠德國*技術(shù)、*海歸工程師團(tuán)隊(duì)組成,以真空設(shè)備銷售和維修為主,集科研開發(fā)、工程項(xiàng)目、技術(shù)服務(wù)于一體的*。

 

  赫哲真空(Hertzian)擁有強(qiáng)大的售后團(tuán)隊(duì),在上海設(shè)有專業(yè)維修工廠,為客戶24小時(shí)提供所有銷售產(chǎn)品的技術(shù)支持及售后服務(wù),公司擁有各種油泵、旋片式真空泵、干泵、機(jī)械泵等真空泵的維修保養(yǎng)技術(shù)、各類工具和必要的部品,能應(yīng)客戶要求,對(duì)客戶工廠設(shè)置的真空機(jī)器、設(shè)備提供定期維護(hù)、保養(yǎng)服務(wù)。

 

  赫哲真空(Hertzian)代理銷售世界-意大利DVP,旗下產(chǎn)品有真空泵、真空油品、真空泵配件維修包等相關(guān)設(shè)備配件材料。

 

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除提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)及咨詢,并且堅(jiān)實(shí)的后勤工作團(tuán)隊(duì),為客戶提供質(zhì)量及技術(shù)的Z佳保證,讓客戶使用上無后顧之憂,并且為客戶解決使用上或應(yīng)用上問題

  赫哲真空(Hertzian)秉承誠信合作、與時(shí)俱進(jìn),為新老客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù),歡迎各界朋友前來洽談合作,共創(chuàng)未來。

真空泵、真空油品、真空泵維修包等相關(guān)設(shè)備配件
真空鍍膜機(jī)Edwards真空泵
真空鍍膜機(jī)Edwards真空泵 產(chǎn)品信息
真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

簡(jiǎn)介
需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。

化學(xué)成分
薄膜均勻性概念
1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi),也就是說對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。
2.化學(xué)組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的含量所在。 具體因素也在下面給出。
3.晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜中的熱點(diǎn)問題,具體見下。


主要分類

主要分類有兩個(gè)大種類: 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等 。


一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜:

一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。
厚度均勻性主要取決于:
1。基片材料與靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3. 蒸發(fā)功率,速率
4. 真空度
5. 鍍膜時(shí)間,厚度大小。


組分均勻性:

蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對(duì)于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。


晶向均勻性:
1。晶格匹配度
2。 基片溫度

3。蒸發(fā)速率


濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差(因?yàn)槭敲}沖濺射),晶向(外沿)生長(zhǎng)的控制也比較一般。
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