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表面測(cè)量利器：橢圓偏振光譜儀 UVISEL PLUS
產(chǎn)品名稱：橢圓偏振光譜儀
產(chǎn)地：法國(guó)
型號(hào)：UVISEL PLUS
典型用戶：NASA 戈達(dá)德太空飛行中心
01 儀器用途及應(yīng)用范圍：
UVISEL 是20 多年技術(shù)積累和發(fā)展的結(jié)晶，即使在透明的基底上也能對(duì)超薄膜進(jìn)行精確的測(cè)量。作為一款高準(zhǔn)確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機(jī)型，它采用了PEM 相位調(diào)制技術(shù)，與機(jī)械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比， 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。
先進(jìn)功能材料
先進(jìn)功能材料
♦ 薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征
♦ 材料/ 表面改性研究
♦ 粗糙度、孔隙率表征
♦ 漸變層、界面層等分析
♦ 穿過(guò)率、反射率曲線測(cè)量
汽車
♦ 薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征
♦ 表面粗糙度、孔隙率表征
♦ 漸變層、界面層分析
♦ 透射率、反射率測(cè)量
♦ 涂層及鍍層分析
半導(dǎo)體材料
♦ 硅片上SiO2 薄膜厚度監(jiān)控
♦ 光刻膠n，k(190-2100nm)
♦ SiN，SiO2 等膜厚測(cè)試
♦ 第三代半導(dǎo)體外延薄膜厚度
能源/光伏
♦ 薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征
♦ 工藝對(duì)鍍膜的影響分析
♦ 漸變層、界面層等分析
♦ 膜層不均勻性成像分析
♦ 在線監(jiān)測(cè)
02 產(chǎn)品特點(diǎn)：
02 產(chǎn)品特點(diǎn)：
• 50 KHz 高頻PEM 相調(diào)制技術(shù)，測(cè)量光路中無(wú)運(yùn)動(dòng)部件
• 具備超薄膜所需的測(cè)量精度、超厚膜所需的高光譜分辨率
• 多個(gè)實(shí)用微光斑尺寸選項(xiàng)
• 可用于在線實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)
• 自動(dòng)平臺(tái)樣品掃描成像、變溫臺(tái)、電化學(xué)反應(yīng)池、液體池、密封池等
• 配置靈活，測(cè)量范圍可擴(kuò)展至190 nm~2100 nm
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04 索取樣本、聯(lián)系報(bào)價(jià)
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