Zeta電位及納米粒度分析儀粒度測量：動態(tài)光背散射技術和全量程米氏理論處理分子量測量：水力直徑或德拜曲線技術：膜電極，微電場電勢測量，“Y"型光纖探針設計，異相多普勒頻移，可控參比方法，快速傅立葉轉換算法，非球形顆粒校正因子。
光學系統(tǒng)：
3mW780nm半導體固定位置激光器，通過梯度步進光纖直接照射樣品，在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號，無需校正光路。
Zeta電位及納米粒度分析儀主要有以下特點：
1、采用的動態(tài)光散射技術，引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關光譜法﹡的“Y"型光纖光路系統(tǒng)，通過藍寶石測量窗口，直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布，在加載電流的情況下，與膜電極對應產生微電場，測量同一體系的Zeta電位， 避免樣品交叉污染與濃度變化。
2、采用異相多譜勒頻移技術，較之傳統(tǒng)的方法，獲得光信號強度高出幾個數量級，提高分析結果的可靠性。﹡的可控參比方法(CRM)，能精細分析多譜勒頻移產生的能譜，確保分析的靈敏度。
3、超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設計，減少了多重散射現(xiàn)象的干擾，保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。
4、快速傅利葉變換算法(FFT，F(xiàn)ast FourierTransform Algorithm Method),迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜，縮短分析時間。
5、膜電極設計，避免產生熱效應，能準確測量顆粒電泳速度。
6、無需比色皿，毛細管電泳池或外加電極池，僅需點擊Zeta電位操作鍵，一分鐘內即可得到分析結果。
7、消除多種空間位阻對散射光信號的干擾，諸如光路中不同光學元器件間傳輸的損失，樣品池位置不同帶來的誤差，比色皿器壁的折射與污染，分散介質的影響，多重散射的衰減等，提高靈敏度。
