產(chǎn)品簡(jiǎn)介
產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) | 產(chǎn)品大小 | 小型 |
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產(chǎn)品新舊 | 全新 | 結(jié)構(gòu)類型 | 密封式,立式 |
結(jié)構(gòu)類型 | 密封式,立式 | 溫度 | 低溫冷水機(jī) |
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無(wú)錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司 |
—— 銷售熱線 ——
13912479193 |
參考價(jià) | ¥146520 |
訂貨量 | 1臺(tái) |
更新時(shí)間:2025-03-25 13:05:08瀏覽次數(shù):28
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半導(dǎo)體變頻水冷機(jī)±0.5℃滿足光刻工藝要求
半導(dǎo)體變頻水冷機(jī)±0.5℃滿足光刻工藝要求
隨著芯片封裝工藝正面臨著熱管理挑戰(zhàn),芯片氣體沖擊熱流儀憑借其高速氣流循環(huán)提供可控冷熱源,不僅是溫控技術(shù)的升級(jí),更是半導(dǎo)體封裝工藝向智能化、低缺陷制造轉(zhuǎn)型的機(jī)遇之一,都為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)續(xù)寫(xiě)新篇。
一、半導(dǎo)體封裝工藝對(duì)準(zhǔn)確控溫的核心需求
半導(dǎo)體封裝涉及塑封、回流焊、熱壓鍵合、老化測(cè)試等關(guān)鍵工序,溫度控制的精度直接影響封裝質(zhì)量與產(chǎn)品可靠性:
1. 材料特性敏感:環(huán)氧樹(shù)脂、焊料等材料對(duì)溫度波動(dòng)敏感,±1℃偏差可能導(dǎo)致分層、空洞或翹曲缺陷。
2. 工藝效率要求:封裝周期需快速升溫/降溫以減少熱應(yīng)力,同時(shí)避免溫度梯度導(dǎo)致的晶圓變形。
3. 可靠性驗(yàn)證:老化測(cè)試需模擬嚴(yán)苛溫度(-55℃~150℃)循環(huán),驗(yàn)證芯片長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
二、芯片氣體沖擊熱流儀的準(zhǔn)確控溫技術(shù)方案
1. 技術(shù)原理與核心設(shè)計(jì)
芯片氣體沖擊熱流儀通過(guò)高速氣體流動(dòng)與準(zhǔn)確熱交換技術(shù)實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)溫控,其核心技術(shù)包括:
PID+模糊控制算法:實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)溫度波動(dòng),動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)氣體流速與加熱功率,控溫精度達(dá)±0.1℃。
流體動(dòng)力學(xué)設(shè)計(jì):優(yōu)化噴嘴布局與氣流路徑,確保晶圓表面溫度均勻性。
多級(jí)制冷系統(tǒng):集成雙制冷源,實(shí)現(xiàn)-55℃~200℃寬溫域快速切換。
2. 芯片氣體沖擊熱流儀應(yīng)用場(chǎng)景與解決方案
場(chǎng)景1:塑封工藝
問(wèn)題:環(huán)氧樹(shù)脂固化時(shí)溫度不均導(dǎo)致內(nèi)部應(yīng)力,引發(fā)分層或裂紋。
方案:熱流儀通過(guò)高溫度沖擊,較短時(shí)間內(nèi)將模具溫度均勻升,固化時(shí)間縮短,缺陷率降低。
場(chǎng)景2:老化測(cè)試
問(wèn)題:傳統(tǒng)溫箱溫變速率慢,測(cè)試周期長(zhǎng)。
方案:熱流儀以速率循環(huán)切換-55℃~125℃,循環(huán)測(cè)試時(shí)間縮短,數(shù)據(jù)誤差小。