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無(wú)錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司>>元器件高低溫測(cè)試裝置>>半導(dǎo)體制冷機(jī)/冷水機(jī)>>FLTZ-203W半導(dǎo)體變頻水冷機(jī)±0.5℃滿足光刻工藝要求

半導(dǎo)體變頻水冷機(jī)±0.5℃滿足光刻工藝要求

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參考價(jià) 146520
訂貨量 1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) FLTZ-203W
  • 品牌 冠亞恒溫
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 無(wú)錫市

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更新時(shí)間:2025-03-25 13:05:08瀏覽次數(shù):28

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)地 國(guó)產(chǎn) 產(chǎn)品大小 小型
產(chǎn)品新舊 全新 結(jié)構(gòu)類型 密封式,立式
結(jié)構(gòu)類型 密封式,立式 溫度 低溫冷水機(jī)
【無(wú)錫冠亞】是一家專注提供高低溫控溫解決方案的設(shè)備廠家,公司主要生產(chǎn)高低溫沖擊氣流儀(熱流儀)、chiller、超低溫制冷機(jī)、高低溫測(cè)試機(jī)機(jī)、高低溫沖擊箱等各種為通訊、光模塊、集成電路芯片等領(lǐng)域的可靠性測(cè)試提供整套溫度環(huán)境解決方案。半導(dǎo)體變頻水冷機(jī)±0.5℃滿足光刻工藝要求

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  隨著芯片封裝工藝正面臨著熱管理挑戰(zhàn),芯片氣體沖擊熱流儀憑借其高速氣流循環(huán)提供可控冷熱源,不僅是溫控技術(shù)的升級(jí),更是半導(dǎo)體封裝工藝向智能化、低缺陷制造轉(zhuǎn)型的機(jī)遇之一,都為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)續(xù)寫(xiě)新篇。

  一、半導(dǎo)體封裝工藝對(duì)準(zhǔn)確控溫的核心需求  

  半導(dǎo)體封裝涉及塑封、回流焊、熱壓鍵合、老化測(cè)試等關(guān)鍵工序,溫度控制的精度直接影響封裝質(zhì)量與產(chǎn)品可靠性:  

  1. 材料特性敏感:環(huán)氧樹(shù)脂、焊料等材料對(duì)溫度波動(dòng)敏感,±1℃偏差可能導(dǎo)致分層、空洞或翹曲缺陷。  

  2. 工藝效率要求:封裝周期需快速升溫/降溫以減少熱應(yīng)力,同時(shí)避免溫度梯度導(dǎo)致的晶圓變形。  

  3. 可靠性驗(yàn)證:老化測(cè)試需模擬嚴(yán)苛溫度(-55~150℃)循環(huán),驗(yàn)證芯片長(zhǎng)期穩(wěn)定性。  

  二、芯片氣體沖擊熱流儀的準(zhǔn)確控溫技術(shù)方案  

  1. 技術(shù)原理與核心設(shè)計(jì)  

  芯片氣體沖擊熱流儀通過(guò)高速氣體流動(dòng)與準(zhǔn)確熱交換技術(shù)實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)溫控,其核心技術(shù)包括:  

  PID+模糊控制算法:實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)溫度波動(dòng),動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)氣體流速與加熱功率,控溫精度達(dá)±0.1℃。  

  流體動(dòng)力學(xué)設(shè)計(jì):優(yōu)化噴嘴布局與氣流路徑,確保晶圓表面溫度均勻性。  

  多級(jí)制冷系統(tǒng):集成雙制冷源,實(shí)現(xiàn)-55~200℃寬溫域快速切換。  

  2. 芯片氣體沖擊熱流儀應(yīng)用場(chǎng)景與解決方案  

  場(chǎng)景1:塑封工藝  

  問(wèn)題:環(huán)氧樹(shù)脂固化時(shí)溫度不均導(dǎo)致內(nèi)部應(yīng)力,引發(fā)分層或裂紋。  

  方案:熱流儀通過(guò)高溫度沖擊,較短時(shí)間內(nèi)將模具溫度均勻升,固化時(shí)間縮短,缺陷率降低。    

  場(chǎng)景2:老化測(cè)試  

  問(wèn)題:傳統(tǒng)溫箱溫變速率慢,測(cè)試周期長(zhǎng)。  

  方案:熱流儀以速率循環(huán)切換-55~125℃,循環(huán)測(cè)試時(shí)間縮短,數(shù)據(jù)誤差小。  





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