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詳細摘要： 芬蘭PICOSUN R-200高級型 原子層沉積機

詳細摘要： MEB550SL3法國Plassys超高真空多腔體電子束鍍膜機，電子束蒸鍍儀是納米器件制備中的儀器，用于蒸鍍各種高純金屬薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, ...

詳細摘要： 德 Iplas 微波等離子化學氣相沉積技術，通過等離子增加前驅體的反應速率，降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態好的高質量硬質薄膜和晶體。

詳細摘要： DV-502B 高真空蒸發器平臺，Denton 熱蒸發濺射儀，在大氣和高真空之間快速循環。

詳細摘要： DENTON 磁控濺射及電子束蒸發薄膜沉積平臺，電子束蒸發、電阻蒸發、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。

詳細摘要： Plasmalab System100 英國Oxford 等離子增強化學氣相沉積，基本溫度低，沉積速率快，成模質量好，針孔較少，不易龜裂。

詳細摘要： 英國Oxford OpAL 開放式樣品載入原子沉積（ALD）設備，提供了專業的熱ALD設備，可以簡單明了的升級使用等離子體，使得在同一緊湊設備中集成了等離子體和...

詳細摘要： Oxford System 100 等離子刻蝕與沉積設備，是一個靈活和功能強大的等離子體刻蝕和淀積工藝設備。 采用真空進樣室進樣可進行快速的晶片更換、采用多種工...

詳細摘要： Auto500是一套多功能的真空鍍膜系統平臺，主要用于科學研究、技術開發或試生產。其真空腔室采用了前開門的箱式設計，可以容納大尺寸樣品。通過可選擇的設備配置能分...

詳細摘要： 芬蘭 PICOSUN R-200標準型原子層沉積機ALDPICOSUN R系列設備提供高質量ALD薄膜的沉積技術，并在各種各樣的襯底上都表現的均勻性，包括挑戰性...