納米實驗室研磨分散機，納米實驗室研磨機，納米實驗室分散機，納米小型研磨分散機，納米研發用研磨分散機，CMD2000/4是一款應用于實驗室小試和中試的設備，集研磨、分散、均質、乳化于一體，在多個領域和行業有著突出的應用。如化工行業：白炭黑、環氧樹脂等超細研磨分散機；食品行業：植物蛋白飲料、膠原蛋白提取等；都可以獲得良好的研磨分散細化的效果。
           


CMD2000/4納米實驗室研磨分散機，電機功率：2.2kw，轉速高達14000rpm，處理在0-200L，設備體積較小，可直接放置實驗臺上操作。專為實驗室研發，模擬生產流程，為量產提供可靠的數據論證。該中試型型機器和大型量產機型配置相同，且分散頭的種類及相應線速度也相同，中試過程中的工藝參數在量產化之后不要重新調整，而將機器型號升級過程中的風險降到zui低。

CMD2000/4納米實驗室研磨分散機是由膠體磨+分散機一體化而成的設備，先研磨后分散，效率果好。CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
            

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。 

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

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