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低能離子注入機 詳細摘要： 低能離子注入機一：概述低能離子注入機可以通過離子源產生超低能量的離子束，在經過二極磁鐵偏轉之后，過濾掉不同荷質比的離子，只留下所需的離子種類和能量的離子束可以穿...
產品型號： 所在地： 更新時間：2021-11-12 參考價： 面議 在線留言 -
感應耦合等離子體刻蝕設備（ICP） 詳細摘要： 感應耦合等離子體刻蝕機產品性能及特點◆設備穩定可靠、工藝，主要用于半導體制造工藝中的介質刻蝕、硅刻蝕以及金屬刻蝕工藝,也能用于太陽能電池片RIE工藝
產品型號： 所在地： 更新時間：2021-11-12 參考價： 面議 在線留言 -
EB系列電子束蒸發鍍膜設備 詳細摘要： EB系列電子束蒸發鍍膜設備產品介紹廣泛用于半導體、LED生產線批量生產，可滿足鋁、鈦、鉻、鉬、釩、鎳、銀、銦等金屬，ITO等氧化物在基片上均勻沉積薄膜的各類工藝...
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等離子體增強化學氣相沉積設備（PECVD） 詳細摘要： 等離子體增強化學氣相沉積設備（PECVD）產品介紹◆用工控機對工藝時間，溫度，氣體流量，閥門動作，反應室壓力實現全自動化控制
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石墨烯、碳納米管材料CVD設備 詳細摘要： 石墨烯、碳納米管材料CVD設備石墨烯、碳納米管材料納米材料CVD設備Graphene、Nano-materialsCVD產品介紹該設備主要用于石墨烯、納米材料工...
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擴散爐 詳細摘要： 閉管軟著陸擴散系統ClosedTubeSoftLandingDiffusionFurnace產品介紹ProductIntroduction◆閉管磷擴散、硼擴散，...
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快速退火爐 詳細摘要： 1、溫度范圍：150-1200℃
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低壓化學氣相沉積設備（LPCVD） 詳細摘要： 低壓化學氣相沉積設備（LPCVD）產品介紹LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態化合物在基片表面反應并淀積形成穩定固體薄膜
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