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詳細摘要： 連續式HIT太陽能異質結電池HFCVD設備

詳細摘要： 太陽能離子注入機功能太陽能離子注入機用于太陽能電池片的摻雜工藝，離子注入后形成電池片發電核心-PN結

詳細摘要： 一、設備用途本尾氣處理裝置主要用于擴散爐與RIE（反應等離子體刻蝕）、PECVD等設備的工藝廢氣的處理，達到直接排放大氣達到環保與安全排放的目的

詳細摘要： 一、設備用途：主要用于金屬殼體在N2、H2氣氛條件下的高溫釬焊、退火等高溫熱處理工藝

詳細摘要： 一、設備用途高真空排氣臺運用于磁控管管芯排氣工藝，是磁控管生產的關鍵設備，磁控管管芯抽真空至高真空（5.0*0-4Pa）通電，燈絲發熱后使得吸附在管芯內的氣體進...

詳細摘要： 一、設備用途真空碳化臺運用于磁控管陰極燈絲碳化工藝，是磁控管生產的關鍵設備，本設備為單腔室反應碳化爐，在真空潔凈條件下，對磁控管陰極通電，通入活性氣氛C6H6(...

詳細摘要： 高溫爐

詳細摘要： 設備特點：該設備加熱部分采用上下爐盤單獨控溫，壓力控制采用電機扭矩輸出和行程可調雙重控制，各部分控制模式均可實現自動/手動模式

詳細摘要： 低能離子注入機一：概述低能離子注入機可以通過離子源產生超低能量的離子束，在經過二極磁鐵偏轉之后，過濾掉不同荷質比的離子，只留下所需的離子種類和能量的離子束可以穿...

詳細摘要： 感應耦合等離子體刻蝕機產品性能及特點◆設備穩定可靠、工藝，主要用于半導體制造工藝中的介質刻蝕、硅刻蝕以及金屬刻蝕工藝,也能用于太陽能電池片RIE工藝

詳細摘要： EB系列電子束蒸發鍍膜設備產品介紹廣泛用于半導體、LED生產線批量生產，可滿足鋁、鈦、鉻、鉬、釩、鎳、銀、銦等金屬，ITO等氧化物在基片上均勻沉積薄膜的各類工藝...

詳細摘要： 等離子體增強化學氣相沉積設備（PECVD）產品介紹◆用工控機對工藝時間，溫度，氣體流量，閥門動作，反應室壓力實現全自動化控制

詳細摘要： 石墨烯、碳納米管材料CVD設備石墨烯、碳納米管材料納米材料CVD設備Graphene、Nano-materialsCVD產品介紹該設備主要用于石墨烯、納米材料工...

詳細摘要： 閉管軟著陸擴散系統ClosedTubeSoftLandingDiffusionFurnace產品介紹ProductIntroduction◆閉管磷擴散、硼擴散，...

詳細摘要： 1、溫度范圍：150-1200℃

詳細摘要： 低壓化學氣相沉積設備（LPCVD）產品介紹LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態化合物在基片表面反應并淀積形成穩定固體薄膜